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Runway:NewsRunway2026-05-21 00:005 月 21 日

Runway发布Aleph 2.0视频编辑模型及Edit Studio应用

Introducing Aleph 2.0 and Edit Studio

AI 导读

Runway于2026年5月21日发布了视频编辑模型Aleph 2.0及其新产品Edit Studio。Aleph 2.0支持编辑最长30秒的1080p视频,具备精准局部编辑能力,可只改变指定内容而完全保留原视频其余部分。该模型引入了基于单帧图像的精确控制,并支持一次性跨多个镜头应用编辑。Edit Studio是基于这些新能力构建的应用,旨在帮助用户高效地将现有视频素材转化为所需版本,例如更换产品、调整背景或修复拍摄瑕疵。该功能现已向所有付费Runway桌面网页端用户开放,使用优惠码可享受套餐折扣。

来源:Runway:News · runwayml.com

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